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光固化粘合(hé)劑的機遇與挑戰(zhan)
簡要總結了光固(gù)化粘合劑及其應(yīng)用的特點、配方設(shè)♋計要⭕點、難點和核(hé)心性能指标;從技(jì)術特色和技🐆術先(xian)進性角度提出了(le)一❌些值得關注、并(bìng)有較大市場空間(jian)的光固化粘合劑(ji),包括UV壓敏膠、複合(hé)膠、建築🔞膠、電子膠(jiao)和光學膠;分析了(le)提高光固化的官(guan)能團轉化率的重(zhòng)要性以及新原料(liào)、新産品開發方面(miàn)的一些難題。
發布(bu)時間:
2025-12-13
光刻膠 | 半(ban)導體高壁壘核心(xīn)材料
導言:光刻膠(jiāo)目前廣泛用于光(guang)電信息産業的微(wēi)細圖形線路👨❤️👨加工(gōng)制作,光刻工藝的(de)成本約占整個芯(xīn)片制🌈造工藝的35%,耗(hào)時占整個芯片工(gong)藝的40%到60%,是半導體(ti)制造💔中的核心工(gong)藝。光刻膠材料約(yuē)占芯片制造材料(liao)總成本的4%,是半💋導(dao)體集成電路制造(zao)的核心材🍉料。 中國(guo)光刻膠市場增速(su)高于國際水平,據(jù)前瞻産業研究院(yuàn)數據,2019年我國光刻(kè)膠本土供應量約(yuē)70億元✔️,自2010年起複合(he)增速達11%,遠高于全(quán)球增速,但本土供(gong)應量🙇♀️在全球占比(bǐ)僅10%左右,且以已經(jīng)實現國産替代的(de)✏️主要是中低端PCB光(guang)刻膠,LCD和半導🧑🏽🤝🧑🏻體領(lǐng)域的光刻膠自給(gěi)率極低。 光刻膠是(shì)圖形轉移介質,其(qí)利🌐用光照反應後(hòu)溶解度不同将掩(yǎn)膜版圖形轉移至(zhì)襯底上,主🤟要由感(gǎn)光劑(光引發劑)、聚(ju)合劑(感🙇🏻光樹脂)、溶(rong)劑與助劑構成。 光(guāng)刻膠原材料主要(yao)爲樹脂、溶劑✌️和其(qi)他添加劑。其中溶(róng)劑質量占比最大(da),一般在80%以上。其他(tā)添加劑質量占比(bǐ)雖不足5%,卻是決定(dìng)光刻膠特有性質(zhi)的關鍵材料,包括(kuò)光敏劑、表面活性(xing)劑等材料。 在光刻(kè)工藝中,光🌈刻膠被(bei)均勻塗布🈲在矽片(piàn)、玻璃和金屬💚等不(bu)同的襯底上,經✔️曝(pù)光、顯影和蝕刻等(deng)工序将掩🐉膜版上(shàng)的❤️圖形轉移到薄(báo)膜上,形成與掩膜(mó)版完全📞對應的幾(jǐ)何圖形。 光刻膠可(kě)根據其下遊應用(yòng)領域💋分爲半導體(tǐ)光刻膠、面闆光刻(ke)膠和PCB光刻膠💃三類(lèi)。 半導體光刻膠 目(mù)前,KrF/ArF仍是主流的加(jia)工材料🛀。光刻技術(shu)💛随着🥵集成電路的(de)發展經曆了從G線(xian)(436nm)光刻,H線(405nm)光刻,I線✉️(365nm)光(guāng)刻,到☀️深紫外線DUV光(guāng)刻(KrF248nm和ArF193nm)、193nm浸沒式加多(duō)重成像技術(32nm-7nm),在到(dao)極端👉紫外線(EUV,<13.5nm)光刻(ke)的發展,甚至采用(yong)非光學光刻(電子(zi)束曝光、離子束曝(pu)光),以相應波長爲(wei)感光波長的各類(lei)光刻膠也應用👈而(ér)生。 光刻膠市場行(hang)業集中度高。日本(běn)企業在半導體光(guāng)刻膠領👨❤️👨域占據絕(jue)對優勢。半導體光(guāng)刻膠主要生産企(qǐ)業包括日本東京(jing)應化、JSR、住友化學、信(xin)越化學;韓國東進(jìn)世美肯;美國陶⭐氏(shì)杜邦,其中日本企(qi)業占據約70%市場份(fèn)額。分産品看,東京(jīng)應化在g線/i線和Krf光(guāng)刻膠領域居龍頭(tou)地位,市場份額分(fen)别達到27.5%和🔴32.7%。JSR在Arf光刻(ke)膠領域市占率最(zuì)高,爲25.6%。 根據富士經(jīng)濟預測,2023年全球ArF、KrF膠(jiao)産能㊙️有望達到1870、3650噸(dūn),市場規模近49、28億元(yuán)。日本光刻膠龍頭(tóu)JSR、TOK包💯括光刻膠在内(nei)的🈚業務毛利率約(yue)40%,其中光刻膠原料(liao)成本約占90%。 國内半(bàn)導體用光✂️刻膠生(sheng)産🌏企業包括上海(hai)新陽㊙️、南大光電、晶(jīng)瑞股份、北京科華(hua)、恒坤股份。目前隻(zhī)有北京科華、晶瑞(ruì)❗股份具備量産KrF光(guāng)刻膠能力,北京科(kē)華産品已爲中芯(xin)國際供貨。上海新(xīn)陽在建的19000噸/年ArF(幹(gàn)法)光刻‼️膠項目預(yu)計2022年達産。 面闆光(guang)刻膠 光刻膠是LCD面(miàn)闆制造的關鍵材(cái)料,根據使用對象(xiang)的不同,又可分😄爲(wèi)RGB膠、BM膠、OC膠、PS膠、TFT膠等。 面(miàn)闆光刻膠主要包(bāo)括TFT配線用光刻膠(jiāo)、LCD/TP襯墊料光刻膠、彩(cai)色光刻膠及黑色(sè)光刻膠四大類⚽别(bie)。其中TFT配線用光刻(ke)膠用于對ITO布線,LCD/TP沉(chén)澱料光刻膠✌️用于(yú)使LCD兩個玻璃基闆(pan)間的液晶材料厚(hou)度保持恒🙇♀️定。彩色(sè)光刻膠及黑色光(guāng)刻膠可賦予彩色(se)濾光片顯色功能(néng)。 面闆㊙️光刻膠市場(chang)需要構成🏃♀️穩定,彩(cǎi)色光刻膠需求量(liàng)領先,預計2022年全球(qiu)銷售量将達22900噸,銷(xiāo)售額将達8.77億美元(yuán)。 TFT面闆用光刻膠、LCD/TP襯(chen)墊料光刻膠、黑色(se)光刻膠銷售額2022年(nian)預計分别達到3.21億(yì)🚩美元、2.51億美元、1.99億美(měi)元。 根據智研咨詢(xún)測算,2020年全球面闆(pǎn)光🏃🏻♂️刻膠市場規模(mo)将達到167億人民币(bì),增速❗維持在4%左右(yòu)。根據我們的測算(suàn),到2025年光刻膠市場(chang)規模将達到203億人(ren)民币。其中,伴随LCD産(chan)🔴業中心的轉移,我(wo)國LCD光刻膠市場規(gui)模及國産化率有(yǒu)望逐步提升。 PCB用光(guang)刻膠 PCB光刻膠可根(gen)據塗布方式🔴分爲(wèi)UV固化油墨✉️和UV噴塗(tu)油墨。目前國内PCB油(yóu)墨供應商已逐步(bu)實現國産替代,容(róng)大感光、廣信材料(liao)等企業已掌握PCB油(yóu)💔墨關鍵技術。 國内(nei)對👉TFT光刻膠和半導(dao)體光刻膠仍在起(qi)步探索階段。晶瑞(ruì)股份、雅克☀️科技、永(yong)太科😍技、容大感光(guang)、欣奕華、中電彩虹(hong)、飛凱材料在☎️TFT光刻(kè)膠領域均有布✔️局(jú),其中飛凱材料、北(bei)旭電✔️子規劃産能(néng)高達5000噸/年,雅克科(ke)技通過收購LG化學(xue)下屬彩色光刻膠(jiao)事業部切入此市(shi)場,在渠道和技術(shu)☀️方面具備優勢。 光(guāng)刻膠等技術壁壘(lei)極高的行業,實🚶♀️現(xiàn)技術層面的突破(po)是基礎、其次,需不(bu)斷改進工藝,滿足(zú)半導體行業快速(sù)發展的需要。 由于(yú)光刻膠等行業認(rèn)證🌐時間較長✂️,客戶(hù)不會輕易更換供(gòng)應商,因☔此進入主(zhu)流供🏃🏻♂️應鏈是極其(qí)必🔴要的。國内光刻(kè)膠生産商未來有(yǒu)望把握中國半導(dao)體行業進口替代(dai)契機,實現快速💋發(fā)展。 ◆ 資料來源:電子(zǐ)材料圈 ◆ 免責聲明(míng)✌️:所載内容來源于(yu)互聯網,微信公衆(zhōng)号等公開渠道,我(wǒ)們對文中觀點持(chí)中立态度,本文⭐僅(jin)供參考、交流。轉載(zai)的稿件版權歸原(yuan)作者和機構所有(yǒu)。
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什(shi)麽是酸銅中間體(ti)
酸銅中間體是可(ke)在酸性鍍銅光亮(liang)劑中提供流平,定(ding)🔴位和🌈分散💛性能的(de)材料的總稱。它主(zhǔ)要包括酸性銅染(ran)料,表面活性劑,濕(shī)潤劑,防霧劑等,并(bing)且在電路闆電鍍(du)和硬件電鍍中具(jù)有廣泛的用途。電(diàn)路闆的酸性銅鍍(du)層中通常⭐使用的(de)是通孔銅鍍層,盲(máng)孔鍍㊙️銅層,緞面銅(tong)等。所用的酸銅中(zhōng)間體主要包括DEB-45,DEB-MP5,COMP3805,SPS等(děng)材料。
什麽是PCB标準通孔(kǒng)尺寸
PCB制造商在鑽(zuàn)孔時有自己的一(yī)套标準孔尺寸可(ke)供選擇,但他們通(tong)常可以使用任何(hé)标準孔尺寸。一般(ban)情況💜下,PCB廠家可以(yǐ)使PCB通孔直徑小于(yú)0.15 mm,而正常尺寸爲0.6 mm。
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亞什蘭(lán)Ashland Aqualon EC乙基纖維素
水不(bú)溶性和非離子性(xing);熱塑性(156℃),優秀的塑(sù)性流動,适♌合于注(zhu)模☎️和熱熔擠出;機(jī)械性質适合于壓(yā)片和成膜;粘度(分(fen)子量)和/或取代度(dù)會顯著影響物理(li)性質。
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