光刻膠(jiao) | 半導體高(gao)壁壘核心(xin)材料

導言(yan)：光刻膠目(mu)前廣泛用(yong)于光電信(xin)息産業的(de)微細…圖形(xing)線路加工(gong)制作，光刻(ke)工藝的成(cheng)本約占整(zheng)個芯片制(zhi)造工藝的(de)💑🏾35%，耗時占整(zheng)個芯片工(gong)藝的40%到60%，是(shi)半導✋體制(zhi)造中的核(he)心工藝。光(guang)刻膠😗材料(liao)約占芯片(pian)制造材料(liao)總成本的(de)4%，是半導體(ti)集成電路(lu)制造的核(he)心材料。

 

中(zhong)國光刻膠(jiao)市場增速(su)高于國際(ji)水平，據前(qian)瞻産業研(yan)究院數據(ju)，2019年我國光(guang)刻膠本土(tu)供應量約(yue)70億元，自🔞2010年(nian)起🎅🏿複合增(zeng)速達11%，遠高(gao)于全球增(zeng)速，但本土(tu)供應量在(zai)全球占比(bi)僅10%左右，且(qie)以已經實(shi)現國産替(ti)代的主要(yao)是中低端(duan)PCB光刻膠，LCD和(he)半導體領(ling)域的光刻(ke)膠自給率(lü)極低。

 

光刻(ke)膠是圖形(xing)轉移介質(zhi)，其利用光(guang)照反應後(hou)溶解度不(bu)同将掩膜(mo)版圖形轉(zhuan)移至襯底(di)上，主要由(you)感光劑(光(guang)引發劑)、聚(ju)合劑(感光(guang)樹脂)、溶劑(ji)與助劑構(gou)成。

 

光刻膠(jiao)原材料主(zhu)要爲樹脂(zhi)、溶劑和其(qi)他添加劑(ji)。其中溶劑(ji)🧑🏽‍❤️‍💋‍🧑🏻質量占比(bi)最大，一般(ban)在80%以上。其(qi)他添加劑(ji)質量占🤶🏾比(bi)雖👽不足5%，卻(que)是決定光(guang)刻膠特有(you)性質的關(guan)鍵材料，包(bao)括光敏劑(ji)、表面活性(xing)劑等材料(liao)。

 

在光刻工(gong)藝中，光刻(ke)膠被均勻(yun)塗布在矽(xi)片、玻璃和(he)💞金屬✡️等不(bu)🙈同的襯底(di)上，經曝光(guang)、顯影和蝕(shi)刻等工序(xu)将掩膜版(ban)上的圖形(xing)😌轉移到薄(bao)膜上，形成(cheng)與掩膜版(ban)完全對應(ying)的幾何圖(tu)形🧛🏽。

 

光刻膠(jiao)可根據其(qi)下遊應用(yong)領域分爲(wei)半導體光(guang)刻膠、面闆(pan)光刻膠和(he)PCB光刻膠三(san)類。

 

半導體(ti)光刻膠

目(mu)前，KrF/ArF仍是主(zhu)流的加工(gong)材料。光刻(ke)技術随着(zhe)集成電路(lu)🧑🏻‍❤️‍🧑🏼的發👽展經(jing)曆了從G線(xian)（436nm）光刻，H線（405nm）光(guang)刻，I線（365nm）光刻(ke)，到深紫外(wai)線DUV光刻😸（KrF248nm和(he)ArF193nm）、193nm浸沒式加(jia)多重成像(xiang)技術（32nm-7nm），在到(dao)極端紫外(wai)線（EUV，＜13.5nm）光刻的(de)發展，甚至(zhi)采用非光(guang)學光刻（電(dian)子束曝光(guang)、離子束曝(pu)光），以相應(ying)波長爲感(gan)光波長的(de)各類光✍🏻刻(ke)膠也應用(yong)而生。

光刻(ke)膠市場行(hang)業集中度(du)高。日本企(qi)業在半導(dao)體光刻膠(jiao)領域占據(ju)絕對優勢(shi)。半導體光(guang)刻膠主要(yao)生産企業(ye)包括日本(ben)💕東京應化(hua)、JSR、住友化學(xue)、信越化學(xue)；韓國東進(jin)世美肯；美(mei)😌國陶氏🛌🏻杜(du)邦，其😮‍💨中日(ri)本企業占(zhan)據約👽70%市場(chang)份額👌。分産(chan)品看，東京(jing)應化在g線(xian)/i線和Krf光刻(ke)膠領域居(ju)龍頭地位(wei)，市場份額(e)分别達到(dao)27.5%和32.7%。JSR在Arf光刻(ke)膠領域市(shi)占率最高(gao)🛀🏼，爲25.6%。

根據富(fu)士經濟預(yu)測，2023年全球(qiu)ArF、KrF膠産能有(you)望達到1870、3650噸(dun)，市😥場規模(mo)近49、28億元。日(ri)本光刻膠(jiao)龍頭JSR、TOK包括(kuo)光刻膠在(zai)内的業務(wu)毛利率約(yue)40%，其中光👀刻(ke)膠原料成(cheng)本約占90%。

國(guo)内半導體(ti)用光刻膠(jiao)生産企業(ye)包括上海(hai)新陽、南大(da)光✡️電、晶瑞(rui)股份、北京(jing)科華、恒坤(kun)股份。目前(qian)隻有北京(jing)科華、晶瑞(rui)股份具㊙️備(bei)量産KrF光刻(ke)膠能力，北(bei)京科華産(chan)品已爲中(zhong)芯🧑🏻‍❤️‍🧑🏼國際供(gong)貨。上海新(xin)陽在建的(de)19000噸/年ArF（幹法(fa)）光刻膠項(xiang)目預計2022年(nian)達産。

 

面闆(pan)光刻膠

光(guang)刻膠是LCD面(mian)闆制造的(de)關鍵材料(liao)，根據使用(yong)對象的🏊🏾‍♀️不(bu)同，又可分(fen)爲RGB膠、BM膠、OC膠(jiao)、PS膠、TFT膠等。

面(mian)闆光刻膠(jiao)主要包括(kuo)TFT配線用光(guang)刻膠、LCD/TP襯墊(nian)料光刻膠(jiao)、彩色光刻(ke)膠及黑色(se)光刻膠四(si)大類别。其(qi)中TFT配線用(yong)光刻膠👯🏾‍♂️用(yong)于🏊🏿‍♀️對ITO布線(xian)，LCD/TP沉澱料光(guang)刻膠用于(yu)使LCD兩個玻(bo)璃基闆間(jian)的液晶材(cai)料厚度保(bao)持恒定。彩(cai)色光刻膠(jiao)及黑色光(guang)刻膠可賦(fu)予彩色濾(lü)光片顯色(se)功能。

面闆(pan)光刻膠市(shi)場需要構(gou)成穩定，彩(cai)色光刻膠(jiao)需求量領(ling)先，預計2022年(nian)全球銷售(shou)量将達22900噸(dun)，銷售額将(jiang)達8.77億美元(yuan)。

TFT面闆用光(guang)刻膠、LCD/TP襯墊(nian)料光刻膠(jiao)、黑色光刻(ke)膠銷售額(e)2022年預計🛌🏻分(fen)别達到3.21億(yi)美元、2.51億美(mei)元、1.99億美元(yuan)。

根據智研(yan)咨詢測算(suan)，2020年全球面(mian)闆光刻膠(jiao)市場規模(mo)将達到167億(yi)人😜民币，增(zeng)速維持在(zai)4%左右。根據(ju)我們的測(ce)😁算，到2025年光(guang)刻膠市場(chang)規模将達(da)到203億人民(min)币。其中，伴(ban)随LCD産業🏊🏿‍♀️中(zhong)心的😈轉移(yi)，我國LCD光刻(ke)膠市場👩🏼‍❤️‍👨🏾規(gui)模及國産(chan)化率有望(wang)逐步提升(sheng)。

 

PCB用光刻膠(jiao)

PCB光刻膠可(ke)根據塗布(bu)方式分爲(wei)UV固化油墨(mo)和UV噴塗油(you)墨。目前國(guo)内PCB油墨供(gong)應商已逐(zhu)步實現國(guo)産替代，容(rong)大感光、廣(guang)信材料等(deng)企業已掌(zhang)握PCB油墨關(guan)鍵技術。

國(guo)内對TFT光刻(ke)膠和半導(dao)體光刻膠(jiao)仍在起步(bu)探索階段(duan)。晶瑞股份(fen)💘、雅克科技(ji)、永太科技(ji)、容大感光(guang)、欣奕華、中(zhong)電彩虹🛌🏻、飛(fei)凱材料在(zai)TFT光刻膠領(ling)域均有布(bu)局，其中✍🏻飛(fei)凱材料、北(bei)旭電子規(gui)劃産能高(gao)達5000噸/年，雅(ya)克科技通(tong)過收購LG化(hua)學下屬彩(cai)色光刻膠(jiao)事業部切(qie)入此市場(chang)，在渠道和(he)技術方面(mian)具備優勢(shi)。

光刻膠等(deng)技術壁壘(lei)極高的行(hang)業，實現技(ji)術層面的(de)突😈破是基(ji)礎🤶🏾、其次，需(xu)不斷改進(jin)工藝，滿足(zu)半導體行(hang)業快💁🏼‍♀️速發(fa)🙆🏿展的需要(yao)🧛🏾‍♀️。

由于光刻(ke)膠等行業(ye)認證時間(jian)較長，客戶(hu)不會輕易(yi)🥑️更換供應(ying)商，因此進(jin)入主流供(gong)應鏈是極(ji)其必要的(de)。國内光刻(ke)😈膠生産商(shang)未來💘有望(wang)把握中國(guo)半導體行(hang)業進口替(ti)代契機，實(shi)現快速發(fa)展。

 

◆ 資料來(lai)源：電子材(cai)料圈

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