國産ArF光(guang)刻膠已有(you)3家企業實(shi)現實質性(xing)的技術突(tu)破

勢銀(TrendBank)研(yan)究統計分(fen)析，2021年國内(nei)半導體光(guang)刻膠市場(chang)規模将達(da)到29億人民(min)币。

 

 

國内半(ban)導體光刻(ke)膠布局及(ji)生産企業(ye)總計約有(you)14家，真正🛀🏼實(shi)現了😁批量(liang)供應的企(qi)業不足7家(jia)，且主要集(ji)中在紫外(wai)負膠/正💫膠(jiao)、i/g線光刻膠(jiao)，如：北京科(ke)華、蘇州瑞(rui)紅、濰坊星(xing)泰克、艾森(sen)半導體、江(jiang)蘇漢拓等(deng)。而高端的(de)KrF光刻膠國(guo)産化率不(bu)足1%，能夠實(shi)現産品供(gong)應🤶🏾的有：北(bei)京科華、福(fu)建泓光半(ban)導體、江蘇(su)漢拓、上海(hai)新陽等。在(zai)技術附加(jia)值更高的(de)ArF光刻膠産(chan)品上，目前(qian)國内還未(wei)能真正實(shi)現規模化(hua)量産訂單(dan)供應，就數(shu)甯波南大(da)光電、博康(kang)旗下漢拓(tuo)光學以及(ji)廣州微納(na)光刻材料(liao)在ArF光刻膠(jiao)産品上有(you)實質性的(de)技術突破(po)。

 

來源：勢銀(yin)(TrendBank) 

 

窺探中國(guo)大陸規模(mo)最大的晶(jing)圓代工廠(chang)中芯國際(ji)各技術節(jie)點營收結(jie)構，在2020年年(nian)底被美國(guo)打壓，四季(ji)度45nm以下制(zhi)程營♌️收發(fa)生嚴重壓(ya)縮，但在今(jin)年上半年(nian)公司整體(ti)運營開始(shi)逐步轉好(hao)，營收增😝長(zhang)了33%，28nm/14nm的先進(jin)制程占比(bi)更是顯著(zhe)提升，這也(ye)推動了上(shang)遊先進光(guang)刻膠的需(xu)求，尤其是(shi)ArF光刻膠😁的(de)國🏊🏿‍♀️産替代(dai)。 

 

來源：SMIC

 

目前(qian)國内芯片(pian)制造企業(ye)消耗的ArF光(guang)刻膠基本(ben)是采購國(guo)👩🏿‍❤️‍💋‍👨🏽外供應商(shang)，例如：JSR、TOK、信越(yue)化學等。我(wo)國本土光(guang)刻膠企業(ye)在ArF光刻膠(jiao)🧑🏽‍❤️‍💋‍🧑🏻産品上還(hai)🥑️是和國際(ji)老牌供應(ying)商之間存(cun)在很大的(de)光刻性能(neng)差距😌，如：折(she)射♌️率、光敏(min)度、分🏃🏻‍♀️辨率(lü)、線邊緣粗(cu)糙度等等(deng)參數。經勢(shi)銀(TrendBank)調研統(tong)計，我國正(zheng)在真正逐(zhu)步推進ArF光(guang)刻膠項目(mu)且有技術(shu)實力的廠(chang)商僅有如(ru)下6家，推測(ce)這幾家也(ye)将是未來(lai)2-3年内逐一(yi)打入本土(tu)芯片制造(zao)🧜🏼‍♂️商供應鏈(lian)👩🏽‍🐰‍👩🏿的最有利(li)競争者：

 

 

甯(ning)波南大光(guang)電

公司是(shi)ArF光刻膠産(chan)品開發與(yu)産業化項(xiang)目的實施(shi)主🙆🏿體單位(wei)，目前ArF幹式(shi)光刻膠已(yi)通過50nm閃存(cun)平台認證(zheng)和55nm邏輯電(dian)路💑🏾平台認(ren)證。公司正(zheng)在大力推(tui)進ArF光刻膠(jiao)（ArF幹式分辨(bian)率90-45nm，濕式分(fen)辨率65-14nm）産能(neng)建☠️設，規劃(hua)年産能達(da)到25噸（幹式(shi)5噸和浸沒(mei)式20噸）。

 

上海(hai)新陽

公司(si)是KrF厚膜膠(jiao)與ArF光刻膠(jiao)開發與産(chan)業化項目(mu)的實施😸主(zhu)體單位，已(yi)擁有兩台(tai)ArF光刻機，可(ke)分别用于(yu)幹法和濕(shi)法光刻膠(jiao)開發。目前(qian)KrF厚膜膠（分(fen)辨率≥0.15μm，膜厚(hou)0.3-15μm）已通過下(xia)遊客戶驗(yan)證，可應用(yong)于3D存儲器(qi)件工藝/PAD/Implant，預(yu)計2021年年底(di)會有訂單(dan)批量供應(ying)出貨。其ArF光(guang)刻膠尚處(chu)于客戶認(ren)證當中，可(ke)應用于先(xian)進邏輯節(jie)點的Line/Contact/Hole/Trench，按進(jin)度預計在(zai)2021年年底會(hui)取得實質(zhi)性的突破(po)進展。

 

 

北京(jing)科華

公司(si)是國内本(ben)土KrF光刻膠(jiao)主力供應(ying)商，目前已(yi)經打入國(guo)内多家芯(xin)片制造廠(chang)供應鏈（如(ru)長江存儲(chu)、中芯國際(ji)、廣州粵芯(xin)、華虹半導(dao)體），2021年上半(ban)年KrF光刻膠(jiao)同比增長(zhang)94.51%，産品可應(ying)用于Poly/AA/Metal/Implant/Contact Hole等工(gong)藝，其ArF光刻(ke)膠項目正(zheng)在按計劃(hua)推進。

 

晶瑞(rui)股份

公司(si)是老牌半(ban)導體光刻(ke)膠供應商(shang)之一，現已(yi)擁有一🧜🏼‍♂️台(tai)ArF幹式光刻(ke)機。其KrF光刻(ke)膠樣品正(zheng)在下遊客(ke)戶驗證，分(fen)辨率可達(da)0.15-0.25μm，可應用于(yu)Hole/Line/Space等層工藝(yi)，其ArF幹式光(guang)刻膠正處(chu)在開發階(jie)段，分辨率(lü)可達90-65nm。

 

江蘇(su)漢拓

公司(si)是徐州博(bo)康集團控(kong)股子公司(si)，具備徐州(zhou)博康成熟(shu)的KrF、ArF光刻膠(jiao)單體開發(fa)技術背景(jing)，目前已開(kai)發KrF正膠和(he)負膠産品(pin)，以負膠（分(fen)辨率0.25μm，膜厚(hou)0.6μm）和厚👽膜膠(jiao)（分👌辨率1μm，膜(mo)厚3-5μm）爲重點(dian)，可應用于(yu)Lift-off工藝、厚鋁(lü)刻蝕、PAD工藝(yi)；ArF系列光刻(ke)膠正在以(yi)與客戶合(he)作🛌🏻開發模(mo)式推進，開(kai)發的ArF光刻(ke)膠樣品分(fen)别達到了(le)N90、N65、N55的應用需(xu)求，已有一(yi)款ArF光刻膠(jiao)産品小批(pi)量供應某(mou)存儲芯片(pian)制造商✡️，全(quan)系列😝産品(pin)還需進一(yi)步在客戶(hu)端評估驗(yan)證。

 

廣州微(wei)納光刻材(cai)料

公司專(zhuan)注開發ArF光(guang)刻膠，目前(qian)主要開發(fa)了90nm和55nm節點(dian)的ArF光刻膠(jiao)樣品，90nm節點(dian)的光刻膠(jiao)有很好的(de)線寬粗糙(cao)度，55nm節點的(de)高寬比可(ke)達3.2:1，同複旦(dan)大學微電(dian)子學院鄧(deng)海教授課(ke)題組💕有深(shen)度合作，其(qi)以OEM形式進(jin)行代工生(sheng)産，和廣東(dong)/嘉興兩家(jia)化工生産(chan)企業簽訂(ding)了代工協(xie)議。
 

勢銀(TrendBank)2021年(nian)推出最新(xin)年度報告(gao)《2021年光刻膠(jiao)産業市場(chang)分析報告(gao)》，本市場研(yan)究報告側(ce)重于國内(nei)半導體/顯(xian)示光刻膠(jiao)市🧑🏾‍🎄場/供應(ying)鏈，報告具(ju)體目錄如(ru)下：

 

第1章 光(guang)刻膠概念(nian)及其行業(ye)發展概述(shu)

1.1 光刻膠概(gai)念深度剖(pou)析

    1.1.1 光刻膠(jiao)應用場景(jing)分析

    1.1.2 光刻(ke)膠的産品(pin)及應用屬(shu)性分析

    1.1.3 先(xian)進光刻材(cai)料熱點剖(pou)析

1.2 中國光(guang)刻膠行業(ye)發展現狀(zhuang)

    1.2.1 國内光刻(ke)膠整體市(shi)場及國産(chan)化情況

    1.2.2 國(guo)内光刻膠(jiao)産業鏈瓶(ping)頸剖析

    1.2.3 國(guo)内各地利(li)好政策及(ji)項目布局(ju)剖析

 

第2章(zhang) 中國光刻(ke)膠專用化(hua)學品行業(ye)競争環境(jing)分析

2.1 全球(qiu)光刻膠專(zhuan)用化學品(pin)主要企業(ye)格局現狀(zhuang)

    2.1.1 上遊主要(yao)企業所屬(shu)地分布情(qing)況

    2.1.2 主要企(qi)業化學品(pin)經營範疇(chou)

2.2 國内光刻(ke)膠專用化(hua)學品市場(chang)分析

2.3 國内(nei)光刻膠專(zhuan)用化學品(pin)主要企業(ye)剖析

    2.3.1 強力(li)新材

    2.3.2 聖泉(quan)集團

    2.3.3 徐州(zhou)博康

 

第3章(zhang) 中國光刻(ke)膠行業競(jing)争環境分(fen)析

3.1 國内光(guang)刻膠企業(ye)地域分布(bu)深度剖析(xi)

3.2 國内光刻(ke)膠企業的(de)産品/産能(neng)情況統計(ji)

3.3 國内光刻(ke)膠市場深(shen)度剖析

    3.3.1 國(guo)内半導體(ti)及顯示光(guang)刻膠市場(chang)格局分析(xi)

    3.3.2 國内半導(dao)體及顯示(shi)光刻膠市(shi)場規模分(fen)析

3.4 國内光(guang)刻膠産業(ye)配套檢測(ce)設備剖析(xi)

    3.4.1 配套檢測(ce)設備資金(jin)投入占比(bi)剖析

    3.4.2 光刻(ke)膠關鍵設(she)備國産化(hua)分析

 

第4章(zhang) 全球光刻(ke)膠行業主(zhu)要企業發(fa)展情況分(fen)析

4.1 國外光(guang)刻膠産業(ye)主要企業(ye)經營情況(kuang)分析

    4.1.1 德國(guo)默克

    4.1.2 日本(ben)TOK

    4.1.3 日本JSR

    4.1.4 美國(guo)陶氏化學(xue)

4.2 重點企業(ye)發展情況(kuang)剖析

    4.2.1 南大(da)光電

    4.2.2 晶瑞(rui)股份

    4.2.3 彤程(cheng)新材

    4.2.4 上海(hai)新陽

    4.2.5 雅克(ke)科技

 

第5章(zhang) 中國光刻(ke)膠專利及(ji)光刻技術(shu)分析

5.1 國内(nei)主要企業(ye)專利申請(qing)情況剖析(xi)

5.2 國内光刻(ke)膠專利深(shen)度剖析

    5.2.1 國(guo)内光刻膠(jiao)專利結構(gou)分析

    5.2.2 國内(nei)外專利趨(qu)勢對比分(fen)析

5.3 先進光(guang)刻技術路(lu)線對比分(fen)析

 

第6章 中(zhong)國光刻膠(jiao)下遊需求(qiu)市場情況(kuang)分析

6.1 下遊(you)應用結構(gou)剖析

6.2 終端(duan)市場格局(ju)分析

 

第7章(zhang)中國光刻(ke)膠産業市(shi)場發展趨(qu)勢預測（2021-2025）

 

第(di)8章中國光(guang)刻膠産業(ye)投資機會(hui)及風險分(fen)析

8.1 産業投(tou)資機會

8.2 投(tou)資風險分(fen)析

 

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